電鍍技術

真空鍍膜機的主要簡介

發布時間:2012年09月29日

 

真空鍍膜機的主要簡介
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,真空鍍膜機具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜機主要思路是分成蒸發和濺射兩種。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機廣泛應用于當今社會。
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