電鍍技術

電弧型離子鍍具有高效率的成膜速

發布時間:2012年07月20日

電弧型離子鍍具有高效率的成膜速

    成膜速度高的原因是使用真空電弧放電熔化陰極。從而可蒸發大量的陰極材料。粘合性能高的原因是通過負偏壓等產生的電場將等離子體引導在基底上,從而沖擊基底。

    但是,由電弧蒸發源的陰極蒸發產生的陰極材料不僅含有適合于成膜的細顆粒,而且還含有大顆粒,所述的大顆粒是每個具有約幾微米至約幾時微米的大塊顆粒(這種大顆粒也稱作“液滴”或者“大型顆粒”)。所產生的問題是這種大顆粒飛濺并且粘結在基底上,從而薄膜表面的平滑度低或者薄膜粘結于基底上的粘結性能差。

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