真空鍍膜與濺射鍍膜的區別

真空鍍膜與濺射鍍膜的區別

    真空鍍膜和濺射鍍膜各有優點，應該依具產品和工藝來決定使用哪種。

    一般：真空鍍膜速率快，重復性相對較差，薄膜的附著力相對較低，材料利用率高。

    濺射鍍膜成膜速率相對慢，重復性好。薄膜的附著力大，材料利用率相對低。

    多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使材料離子化（帶正電顆粒）， 從而高速擊向基片(負電)并沉積，形成致密膜堅硬膜。主要用于耐磨耐蝕膜。其缺點是正負電撞造成膜層不均勻，空穴、燒蝕。