電鍍技術

真空鍍膜與濺射鍍膜的區別

發布時間:2012年07月03日

真空鍍膜與濺射鍍膜的區別

    真空鍍膜和濺射鍍膜各有優點,應該依具產品和工藝來決定使用哪種。

    一般:真空鍍膜速率快,重復性相對較差,薄膜的附著力相對較低,材料利用率高。

    濺射鍍膜成膜速率相對慢,重復性好。薄膜的附著力大,材料利用率相對低。

    多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使材料離子化(帶正電顆粒), 從而高速擊向基片(負電)并沉積,形成致密膜堅硬膜。主要用于耐磨耐蝕膜。其缺點是正負電撞造成膜層不均勻,空穴、燒蝕。

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