真空鍍膜設備

中頻磁控+多弧離子濺射鍍膜機

 

該設備具有:結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產效率高、操作方便、能耗低性能穩定等優點。廣泛應用于切削刀具如齒輪滾刀,插刀,銑刀,鉆頭等表面沉積超硬涂層,也可用于鐘表,眼鏡架,手機殼、鎖具,潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層,本設備可實現一機多用沉積多種膜層,膜層細膩,有純鈦( Ti ) 氮化鈦( TiN ) 氧化鈦( TiO ) 純鋯( Zr ) 氮化鋯( ZrN ) 碳化鈦( TiC ) 純鉻( Cr ) 氮化鉻( CrN ) 碳氮化鈦( TiCN ) 氮化鋁鈦( TiAlN ), PVD 鍍膜膜層目前常見的顏色主要有: 深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色, 藍色等。亮度好,飽滿度好。
本公司可以根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。

參數說明:

 

型號
HY-1200
HY-1400
HY-1600
HY-1800
  真空室尺寸
Φ 1200Χ1600mm
Φ 1200Χ2000mm
Φ 1600Χ2000 mm
Φ 1800Χ2000 mm
 
 
電源類型
高頻逆變弧電源,大功率中頻電源
  真空室結構
立式單開門、后置抽氣系統
極限真空
6.0Χ10-4pa
真空系統
擴散泵+羅茨泵+機械泵+維持泵
抽氣時間
從大氣抽至5Χ10-2Pa小于或者等于5分鐘
   工件運動方式
公自轉/變頻調速
控制方式
手動/自動一體化式,觸摸屏+PLC
備注
真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做

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